拓荆科技股份有限公司:专注半导体设备领域的创新力量
拓荆科技股份有限公司(以下简称“拓荆公司”)成立于2010年4月,是一家专注于高端半导体专用设备研发、生产、销售和技术服务的高新技术企业。公司秉承技术创新,致力于为客户提供高质量的半导体设备解决方案。
1.公司概况
拓荆科技股份有限公司总部位于辽宁省沈阳市浑南区,注册资本为18818.8255万人民币,实缴资本为9485.8997万人民币。公司法定代表人为刘静,自成立以来,拓荆公司始终秉承“创新、务实、共赢”的企业精神,为客户提供优质的半导体设备产品和服务。
2.发展历程
拓荆科技股份有限公司自成立以来,历经十年磨砺,现已发展成为国内领先的半导体设备供应商。公司于2022年4月20日正式登陆上海证券交易所科创板,标志着公司在资本市场迈出了重要一步。
3.主营业务
拓荆公司主营业务涉及高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。最新年报显示,公司主营业务收入构成为:薄膜沉积设备95.02%,其他(补充)2.61%,混合键合设备等。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(ECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备、次常压化学气相沉积(SACVD)设备、高密度等离子体化学气相沉积(HDCVD)设备等。
4.地域布局
拓荆公司在国内外市场拥有广泛的业务网络,分别在沈阳、北京、上海、海宁和***设立子公司,形成了覆盖全球的市场布局。公司通过不断拓展业务范围,提升产品竞争力,为客户提供更加便捷、高效的服务。
5.合作伙伴
拓荆公司积极与国内外知名企业合作,共同推动半导体设备领域的技术创新。公司曾与中微公司、北方华创、华海清科、中芯国际、屹唐等知名企业建立了战略合作伙伴关系,共同为客户提供优质的半导体设备产品。
6.未来展望
面对日益激烈的市场竞争,拓荆公司将继续加大研发投入,提升产品竞争力,为客户提供更加优质、高效的半导体设备解决方案。未来,拓荆公司将继续秉承“创新、务实、共赢”的企业精神,为我国半导体产业发展贡献力量。